北京时间08月29日消息，中国触摸屏网讯， 永光化学参加2013年台湾触控面板暨光学膜製程设备材料展，在台北南港展览馆L区818摊位，展出触控面板光阻剂、低温多晶硅(LTPS) TFT-LCD光阻剂、软性基材用的覆晶薄膜封装(COF)光阻剂、主动式有机发光二极体(AMOLED)光阻剂等等应用在光电领域的多项产品。

    本文来自：http://www.51touch.com/touchscreen/news/focus/201308/29-24671.html

    永光化学自1996年发展电子化学事业，一路走来不间断的建立自主技术，在低温多晶硅(LTPS) TFT LCD製程关键化学品已上市EPL386及EPL388正型光阻剂；在触控领域方面，新世代绝缘层透明光阻剂EOC300Series产品已上市，该产品具有高透明性、接着性佳、高硬度、低曝光能量、易显影及耐蚀刻特性、耐高温、耐高湿之特性，运用于触控面板绝缘层(OC1)与保护层(OC2)，已成为事业营运的主力产品。

    永光提供EPL388光阻剂产品以满足高解析度、高色彩饱和度等平面显示器的基本需求；而AMOLED显示技术应用在手机及平板电脑的比例已明显提高，永光也提供EPL356及ENPI300光阻剂满足客户所需。

    EPL388光阻剂应用在LTPS的TFT-LCD製程，由于具备高解析度、高敏感度的特性，能有效降低曝光时间以增加产能，而且在面板製程中与显影液的相容性高，可有效解决製程残留问题。

    EPL356光阻剂应用在AMOLED面板製程中，可用在绝缘层(insulator)以及ITO与金属线路的图形化，具有高色彩饱和度、高解析度、耐蚀刻性佳等优点。ENPI300光阻剂，应用在间隔层(Pillar or Rib)，具有高耐热性佳、光阻Overhang角度佳等优点。

    在Flexible应用方面，永光专利新产品FSR110&112为正型光阻剂，主要应用在可挠性显示器的产品，具高解析度、曝光能量低、可挠曲性、涂佈性及良好附着性、并且可使用1%碳酸钠系统显影等特性；将推广至面板驱动IC的COF&TAPE製程应用，也可涂佈在软性基材上，将是高阶智慧型手机、平板电脑等3C电子商品朝向轻、薄、短、小及精緻化发展趋势中，不可或缺之关键及前瞻性製程材料。

    近年来智慧型手机的投射电容触控技术，实现了人们使用便利的多点触控功能。永光也持续地随着触控技术的演进，与产业同步精进，不断推出透明、绝缘度更好、附着性更佳的产品，其中永光EOC系列透明绝缘光阻，可以说是投射电容触控面板最关键的材料之一。

    EOC270系列光阻剂，适用于一片玻璃式(OGS)触控製程之触控面板製造。有良好的抗氢氟酸(HF)蚀刻能力并可剥除。且于化学强化玻璃或各种金属基材上有优良的附着力(大于4B)。

    EOC200系列光阻剂，使用在触控面板绝缘层与保护层，具有高硬度(4H)、良好金属附着性(大于4B)、高穿透率(膜厚1.5μm，穿透率大于95%)等特性。可以搭配无机硷型(KOH type)显影液与缓冲型(Buffer type)显影液使用，也可搭配不含金属离子的TMAH显影液使用。

    永光化学针对触控面板厚度减薄的需求，开发了EK系列的黑色光阻产品，EK520、EK570光阻剂，适用于OGS製程之触控面板製造，具有高敏感度、良好黏着性(大于4B)、高表面电阻及优良耐热与耐化学的特性。

    展望LCD发展趋势将聚焦于OGS製程之关键化学品开发，永光未来将再提升黑色光阻剂EK520&570黄光製程特性，并持续开发及鑽研大于300°C耐高温製程且具有高表面电阻特性的触控面板用光阻剂，以持续满足客户需求。