有机金属化学气相沉积特化品厂三化电子进驻竹科铜锣园区

作者: 51Touch     时间:2018-02-02     源于:经济日报    总点击:
【导读】:为就近服务台积电(2330)等晶圆厂与面板双虎群创、友达,有机金属化学气相沉积(MOCVD)特化品大厂日商三化电子材料进驻竹科铜锣园区,规划投资3亿元建新厂。

    北京时间02月02日消息,中国触摸屏网讯, 三化建新厂 群创友达利多。为就近服务台积电(2330)等晶圆厂与面板双虎群创、友达,有机金属化学气相沉积(MOCVD)特化品大厂日商三化电子材料进驻竹科铜锣园区,规划投资3亿元建新厂。

    本文来自:http://www.51touch.com/touchscreen/news/dynamic/201802/02-49612.html

三化电材将成为第四家进入竹科铜锣园区的日商,促成当地半导体材料供应专区成形。

竹科管理局表示,三化电材为日本Tri Chemical研究所于竹科铜锣园区设立的公司,Tri Chemical研究所设立于1978年,主要业务为进行99%以上超高纯度化学材料的研发、制造及销售,拥有2,000种以上产品化学材料,具有以公克为单位起跳的供货能力,并配合顾客需求提供客制化服务。

三化电材看好台湾为全球半导体制造主要集中地,为保持竞争优势,决定在台湾投资3亿元,选定竹科铜锣园区设厂,输出高技术提供超高纯度、实时、免运的服务,要抢得半导体产业发展先机。


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