北京时间04月09日消息，中国触摸屏网讯，随着半导体及光电制程对于品质精进的要求，制程环境的侦测与控制也随之延伸进化，当制程演进到奈米等级，空气中原本被忽略的微小气状分子污染物(Airborne Molecular Contamination；AMC)，开始对制程良率及产品可靠度产生了影响。

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    依据Kinkead等人的研究结果估计，这些气状分子污染物，因为量产而产生造成的延迟损失，每天高达250万美元；因此如何防治AMC污染，已经成为产业界面临之重大问题。

    对于空气中所含何种微污染物并如何控制及监看，成为愈来愈多先进制程所关注的焦点。以往为了制程环境的空气所含的微污染物，需耗用资源建置实验室，雇用分析人力并采购大量分析仪器，如气相层析质谱仪GC-MS、离子层析仪(Ion Chromatography)等。

    致力于洁净空气先进技术开发的奇鼎科技，为生产制程环境控制考虑各种面向，2015年也首度在SEMICON China展出，获得一线大厂认同与肯定。

    以人工采样制程空气并使用实验室仪器分析，从人工采样、仪器校正、仪器分析到最终产出一份制程环境报告，中间需要花费大量的时间及人力，以传统实验室分析作为品质控制的资料回朔，在高阶制程中已经难以赶上分秒必争的产品产出率。

    自2010年起，奇鼎科技与台湾晶圆代工大厂成为品质控管的合作夥伴，为先进制程所推出的“线上气相微污染物连续侦测系统”(In-line nano-contamination inspection)系列产品；整合分析仪器及连续多点采样模式，提供一个制程环境全面微污染物自动化监控的方法，大幅减少了实验室建置、人力、仪器分析所需耗费的成本，可以立即反应每一段制程环境的变化。

    为了追求全自动、更快速、更全面、更精准的微污染物连续线上侦测，2015年奇鼎科技推出新一代的侦测系统“IAE-1000”。精进前处理过程，较前代机种分析速度快10倍。能有效即时反应制程环境产生的微污染物生成及趋势变化。

    采集点位(ports)更由前代设计16个采样点位，精进为可采样超过40点的广泛观测，使高阶制程厂区的监控更为全面。以独家专利，突破了远端空气即时取样回收率不良的瓶颈，让远端微污染物的分析判读等同于在现场直接进行分析。

    采用整合分析仪器，改良前代机种侦测单一类型有机物分子(VOC)，新一代IAE-1000可同时观察酸(MA)、硷(MB)、凝结物质(MC)等物种，更全面的监控所有可能会产生危害的气体分子微污染物。结合快速分析、多点远端连续侦测、广泛的观察物种而成的强大品质资料库，提供先进制程环境的全面监控系统。

    有关高阶制程品质控管方案，如奇鼎科技的“线上气相微污染物连续侦测系统”IAE系列及AMC去除控制整合节能方案，这类型气相微污物监测及控制产品皆在2015年SEMICON China半导体展览上海展出时，获得大陆一线晶圆代工厂及面板厂的认同，解开制程空气与产品质量关联性的未知领域，将成为先进制程在品质精进上的重要议题。