北京时间03月27日消息,中国触摸屏网讯, 台积电南京有限公司总经理罗镇球23日在ICMC 2017上表示,台积电7纳米预计2017年下半将为客户tape-out生产。此外,他透露EUV最新曝光机台在台积电已经可以达到连续3天稳定处理超过1500片12吋晶圆,这也是台积电最新的EUV进展。

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 ICMC 2017在南京江北浦口新区举行,并邀请全球半导体大厂台积电进行第一场CEO论坛。台湾地区半导体协会理事长卢超群也代表台湾业者参会。卢超群说,台积电日前的市值已正式超越英特尔(Intel),当他向台积电董事长张忠谋报告时,张忠谋回他“我不看股票,只管把技术做好!”

 台积电南京有限公司总经理罗镇球说,台积电作为全球最大晶圆代工厂将会持续推进摩尔定律。他指出,目前台积电10纳米已顺利量产,2017年下半7纳米制程也将正式tape-out。同时,他也在会上分享了台积电EUV最新进展。

 目前台积电采用ASML最新EUV的型号为NXE3350的曝光机台,光源已经可以提高到125瓦,同时已达到连续3天处理1500片晶圆。

 罗镇球在演讲“致力科技创新,拥抱智能世界”时表示,在普及计算领域,科技将重塑人类社会生活,未来普及计算,人将摸不到、也触不到电脑,这些电脑都在后台通过云端运算连接,但个人却可以享受得到普及计算的快速与智能。未来智能芯片将会渗透到个人、工业、零售、智能城市领域,摩尔定律也将持续推动芯片走向低功耗、高性能、小面积。

 罗镇球表示,半导体产业未来的挑战不仅只有制程微缩,未来挑战还包括EUV、整个电晶体的架构从2D转变成3D,以及整个环绕式ALL Around Gate、Narrow-wide Device等等。他举例,台积电目前在3D芯片领域开展了多条创新技术,包括IC系统整合CoWos,将不同晶圆切割好再堆叠,单位体积上达到更高密度电晶体;目前此技术已在GPU芯片实现量产。这些都是台积电在运用普及计算中的技术创新。

 南京浦口是台积电在大陆第一座12吋晶圆厂。罗镇球透露,台积电南京厂预计2017下半年就要移入生产机台;2018上半年试产,2018下半年正式投入量产。

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