北京时间03月24日消息，中国触摸屏网讯，近日由芯刻微公司委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司（以下简称“盛吉盛”）代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

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3月11日，芯刻微公司向盛吉盛支付10%首期货款购入该光刻机，剩余90%六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。

据了解，上海新阳于2020年8月与芯刻微、超成科技签署了《增资及股权转让协议》。增资及股权转让完成后，公司持有芯刻微38%的股权，超成科技持有芯刻微62%的股权，芯刻微公司未来进行ArF湿法光刻胶的研发。

上海新阳半导体材料股份有限公司始终坚持以技术，始终坚持瞄准国际前沿技术，面向全球产业需求，突破国际技术垄断，填补国内技术空白，持续进行技术创新与产品研发。专注于半导体行业所需功能性化学材料产品及应用技术的研发创新、生产制造和销售服务，致力于为用户提供化学材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案，跻身为世界半导体材料供应商与应用技术服务商。

上海新阳创立于1999年7月，2011年6月在深圳证券交易所创业板上市（简称：上海新阳，代码：300236）。二十年来，上海新阳经过持续不断地研发创新，形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，已申请授权国家专利210项，其中国内发明专利102项，国际发明专利8项，用于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技术已达到世界水平。紧密围绕两大核心技术，开发研制出140多种电子电镀与电子清洗系列功能性化学材料，产品广泛应用于集成电路制造、3D-IC先进封装、IC传统封测等领域，满足芯片铜制程90-28nm工艺技术要求，相关产品已成为多家集成电路制造公司28nm技术节点的基准材料（Base Line），成为中国半导体功能性化学材料和应用技术与服务的知名品牌。公司已立项研发集成电路制造用高分辨率193nm ArF光刻胶及配套材料与应用技术，拥有完整自主可控知识产权的光刻胶产品与应用即将形成公司的第三大核心技术，公司在国内半导体功能性化学材料领域的地位将更加稳固。

上海新阳是国家高新技术企业，上海市企业技术中心，上海市专利工作示范企业，上海市重合同守信用AAA级企业。公司先后多次承担国家科技重大专项《极大规模集成电路制造装备及成套工艺专项》（02专项）项目研发与产业化，并获得国家02专项体制创新奖。公司多项产品荣获中国半导体创新产品技术奖，中国国际工业博览会新材料一等奖，上海市高新技术成果转化项目奖，松江区科学技术进步一等奖。

上海新阳2013年收购江苏考普乐新材料有限公司，成功进军布局氟碳涂料工程防腐与装饰业务领域。2014年与2016年分别投资参股主营半导体12吋硅片产品的上海新昇半导体科技有限公司和主营半导体湿法工艺设备产品的上海新阳硅密半导体技术有限公司，使公司半导体业务领域不断扩大。公司目前拥有控股和参股一级子公司10家，二级子公司2家，已逐步发展成为中国在半导体材料与氟碳涂料领域有广泛影响力的集团公司。

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