在真空镀膜机镀膜的时候，是要非常注重膜层的均匀效果的，如果膜层的均匀性不好，粗糙，就是一个不合格的产品，是不能出厂的。

    那么真空镀膜机镀制的薄膜均匀性是如何来判定好与坏的呢？其实可以从三方面来考虑，一个是光学性质方面，一个是化学性质方面，一个是物理性质方面。光学性质就是指那粗糙度是否可以控制好，一般是要求达到1/10左右，大约就是100A，达到了这个数值的薄膜，其均匀性可以算是好的了，当然，如果想精益求精，达到10A，或者更厉害的达到1A的话，那就需要相当高的技术了，如果真的达到了这个数值，那膜层的表面就真的非常光滑了。

    化学性质就是薄膜化学成分的精确性，如果你需要镀制何种膜，你就要确保构造这种薄膜化学成分的精准，不能掺杂了其它的成分，对于某些敏感的膜层，只有那么一丁点的杂质都会影响其成膜后的效果，所以要非常注意，当然也有些不太敏感的就不需要太注重那么多，但也不是说一点都不注重。物理性质就是薄膜本身的结构，特别指的就是晶格的有序度和匹配度，在镀膜的过程中，因晶体排序的不同，会产生单晶、多晶、非晶的状态，如果晶体内部的每个部分相应的宏观性质是一样的话，那么薄膜的均匀性就是很好的。

    真空镀膜机镀好膜层后，可以通过这些方面来看一下薄膜的均匀性是不是好的。