XR-3000是引进日本技术研制而成，为单组份UV接触曝光，稀碱显影、抗蚀刻、抗电镀、抗氧化油墨。广泛用于金属用具、模具、花辊、工艺品、铭牌、不锈钢网、电子五金元器件的高精密度蚀刻。显像度高，抗蚀刻能力强，性能稳定。亦用于制作单面、双面及多层精密电路板。耐酸碱蚀刻液并可耐铜、锡、铅及镍金电镀液，其性能比干膜更优异。

 

操作流程及技术参数：
 
1.基板前处： 酸处理及刷磨与一般前处理相同

2.涂布：搅拌均匀，满板印刷，电镀用120-150目，蚀刻用200-250目丝网，印完后静置15分钟         

3.预干：75℃-85℃，10-20分钟，冷却后手压无压痕。

4.曝光：80-100mj/平方厘米，21级光梯表6-8格(1-3kw紫外线灯、碘镓灯、汞灯40-50秒)，电镀100-120 mj /平方厘米。 

5.显影：在1-1.2%碳酸钠（Na2CO3）溶液,30±2℃的溶液中浸泡40-45秒，

然后用 1.5-2.0kg/平方厘米压力的清水冲洗。    

6.后烘烤：150-170℃，烘烤20-30分钟。

7.蚀刻：酸性或碱性蚀刻液。

8.去膜：5%氢氧化钠（NaOH）溶液,50±5℃,60-120sec．