I老大认为哪家TO镀膜设备比较好呢,
3 s; O, A! W+ S. Y2 z& A# D! [目前激光刻蚀电容式的一般要求在16-20UM区间,已有多台出货,呵呵
0 Y1 Y9 e, V$ `4 ~1 ^7 O产出要看PATTERN的复杂度等,速度是会慢点。
2 ]7 ^, ?# H' \5 }$ V" \2 g/ n+ w1 l对位问题目前客户在ITO GLASS上做成MARK,利用3个CCD进行自动对位,
! c M' w/ i8 G: C完成后也可用CCD进行刻蚀效果精度等的检查。AUTO Z 轴对焦也可作为选件。
% F* J5 h4 |% B& U* c6 v, g双面刻蚀就是用在IPONE式的电容屏上的
0 b3 I$ J( T3 _2 R4 e0 @0 t. @6 y2 g+ ~5 ^* f( H
[ 本帖最后由 zhai 于 2008-6-24 11:39 编辑 ]